真空鍍鋁膜的生產(chǎn)工藝流程
真空鍍鋁膜的生產(chǎn)工藝流程為:基材放卷→抽真空→加熱蒸發(fā)舟→送鋁絲→蒸鍍→冷卻→測(cè)厚→展平→收卷;其真空鍍鋁方式有轉(zhuǎn)移法和直接蒸鍍法兩種。
(1) 轉(zhuǎn)移法是借助載體膜將金屬鋁層轉(zhuǎn)移到基材表面而形成真空鍍鋁膜的一種工藝。轉(zhuǎn)移法是在直接蒸鍍法基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的新工藝,它克服了直接蒸鍍法對(duì)基材要求的局限性,尤其適合于在各種紙及紙板上進(jìn)行鍍鋁,也可用于塑料薄膜的鍍鋁。
(2)直接蒸鍍法是被鍍基材直接通過(guò)真空鍍膜機(jī),將金屬鋁蒸鍍?cè)诨谋砻娑纬烧婵斟冧X膜的一種工藝。直接蒸鍍法對(duì)基材的要求較高,尤其是表面要形成光亮的金屬膜時(shí),pet金膜定做加工,需要求基材具有較好的表面平滑度。如果紙張的表面較粗糙,則采用直接蒸鍍法時(shí),需要在鍍鋁前進(jìn)行表面涂布。另,在蒸鍍過(guò)程中要求基材的揮發(fā)物要少。直接蒸鍍法主要適用于蒸鍍塑料薄膜,河北pet金膜,也可用于紙張的蒸鍍,但紙張的質(zhì)量要求高,并對(duì)紙的定量有一定的限度;也就是說(shuō)直接蒸鍍法對(duì)基材的適用范圍有較大的局限性。真空鍍鋁對(duì)被鍍基材的要求:
(1)基材表面清潔光滑、平整、厚度均勻,即基材應(yīng)具有一定的強(qiáng)度和表面平滑度;挺度和摩擦系數(shù)適當(dāng)。
(2) 耐熱性好,基材經(jīng)得起蒸發(fā)源的熱輻射和蒸發(fā)物的冷凝潛熱,基材含水量低于0.1%。。
(3)薄膜基材產(chǎn)生的揮發(fā)性物質(zhì)要少;表面潤(rùn)濕張力大于38dyn/cm。
(4)對(duì)鍍鋁層的粘接性良好;對(duì)于非極性材料,真空鍍鋁前應(yīng)進(jìn)行表面處理、以提高與鍍層的粘接性。
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